[TOGA effect] 반도체 실리콘 웨이퍼 가공업체의 암모니아 악취 제거 솔루션

지티사이언의 TOGA 필터 기술로 만나는 더 안전한 작업 환경!

반도체 실리콘 웨이퍼 가공 공정 중 발생하는 유해한 암모니아 악취를 효과적으로 제거하는 맞춤 솔루션을 확인해 보세요.

반도체 품질을 결정하는 핵심, 웨이퍼 가공 중 세정 공정의 중요성

회로 선폭이 미세해짐에 따라 웨이퍼 세정 및 표면 처리 공정의 중요성이 더욱 커지고 있습니다.

화학적·물리적 잔류물을 완벽히 제거해야 제품의 성능과 신뢰성을 확보할 수 있습니다.

습식 세정 공정에서의 암모니아수 사용과 유해가스 위험

가장 빈번하게 사용되는 습식 세정 공정에서는 암모니아수 또는 암모니아 포함 약액을

과산화수소 계열과 혼합해 주로 사용합니다. 이 과정에서 유해 가스 발생 위험에 노출되기 쉽습니다.

세정조 탱크 보충·교체 및 순환 라인 점검 시 발생하는 암모니아 가스

암모니아수가 공정 환경에서 기화되면 적은 양으로도 강하게 감지되는 자극적인 냄새의

암모니아 가스가 발생합니다. 특히 세정조 탱크 보충, 교체, 순환 라인 점검 시 집중 발생합니다.

작업장 노출 기준과 환기 부족 시 발생하는 호흡기 자극 위험

암모니아 가스의 작업장 노출 기준은 TWA 25ppm, STEL 35ppm입니다.

단순한 불쾌감을 넘어 환기 부족 시 호흡기 자극, 기침 등 작업자의 건강을 위협할 수 있어 확실한 정화 대책이 필요합니다.

[데모 결과] TOGA 필터 장착 유해가스 정화장치의 탁월한 암모니아 저감 효과

H고객사 실제 데모 결과, 유해가스 정화장치 흡입구의 50ppm 초과 농도가

TOGA 필터를 거친 배기구에서는 1ppm 미만으로 획기적으로 감소하는 저감 성능을 입증했습니다.

반도체 웨이퍼 공정 악취 민원 및 작업자 노출 위험 저감 솔루션

암모니아 가스 99% 제거, 가스 발생 즉시 제거 및 전체 확산 가스 제거용 모델 라인업 구축!

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